第169章 抢占EUV光刻机配套专利！（1 / 2）
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“光刻机的问题，我这边会联合国内高校、研究所、一起解决！”
韩文韬对邱云说道：“你放心，光刻机不是没办法追，没你想象中的那么难！”
“即便是现在，“北辰”公司也已经有很多技术积累了！”
“你说的12寸晶圆厂自动物料搬运系统，还有硅片问题……我年后联合“北辰精密”解决这方面的问题！”
“保证在晶圆厂投入使用之前，将问题解决。”
目前12英寸晶圆厂的自动物料搬运系统，全球也是刚刚投入使用。
主要的问题还是精度！
以及——洁净度！
精度自然不用多说，涉及到芯片半导体，哪怕是搬运物料，硅片取送，要求都极高！
不仅仅是精度，还要稳定！
洁净度自然不用多说。
一粒微小尘埃落在晶圆上，就会造成电路短路、断路，直接报废整片晶圆。
整个晶圆厂车间，洁净度要求是：ISO5，百级。
也就是：每立方英尺空气中≥0.5μ灰尘颗粒≤100颗。
核心光刻设备内部晶圆微环境，洁净度需要达到：ISO4——十级！
也就是：每立方英尺空气中≥0.5μ灰尘颗粒≤10颗。
这种洁净度下，自动物料搬运系统，无论你怎么做……地上走？还是搞在空中？
导轨之间的摩擦，都可能产生尘埃。
所以整个自动物料系统要求极高！！
才值得邱云拿出来说。
但是对于韩文韬来说，都不是问题。
制作出耐磨材料，加上“北辰精密”的高精度设备和控制系统，完成这个自动物料搬运系统难度不大。
至于硅片？
这个更简单！
“原子重组”的能力，直接从原子微观视角整合硅片的制作工程：
石英砂还原为冶金级硅；
在单晶炉内将多晶硅熔化，用籽晶缓慢旋转提拉，生长成圆柱形的单晶硅锭；
在这些过程中，原子的排列和变化。
找到最佳精炼方法、温度、拉晶的力度曲线等等。
有了原子级的详细数据，再去逆推整个生产制造设备、方法、工艺……不存在任何问题！
最多就是多尝试几次！
甚至还能将现有设备、加工方式、以及工艺上做优化！
“老板有信心就好……这件事其实不着急，我等着公司资产的12寸大硅片！”
邱云对老板的自信……怎么说呢！
有一定的信心！
但不完全相信。
只有搞半导体这一行，才知道晶圆厂设计的设备、材料有多少、精度有多高。
仅仅是光刻机，他就不觉得，老板自己联合东大国内的高校和研究所，就能解决！
能追上全球众多国家、各领域最顶尖的企业、联合生产制造的——最顶尖的光刻机！
目前，光刻机已经到0.13u……也就是130纳米，将步入90纳米制程工艺。
东大国内的光刻机？
邱云真的了解过。
东大确实能生产制造光刻机……只不过制程工艺0.8微米-1微米的水平。
也就是800纳米-1000纳米！
对比120纳米和90纳米，差距确实很大。
用来生产一些普通的电器芯片，高校和科研机构是没问题的。
但是要用在高端电子设备上，1微米和0.8微米？
根本不够看！
差了整整5代！！！
这要追赶阿斯麦90纳米的光刻机……那差的就不是5代了。
其中的难度……根本没办法说。
“那我先走了！”
韩文韬没和邱云多说什么，没去解释什么。
他将邱云提出的问题记下来，在晶圆厂正式投入使用前解决就行。
当然……光刻机不可能解决。
还是只能先用0.25u的光刻机。
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