第376章 冈部三连问（1 / 2）
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他把面前那份资料往前推了推，那些红色标记在灯光下格外刺眼，他朝王金龙和林景义的方向微微鞠了一躬，说话的速度不快，每句话之间留出足够的间隔让翻译跟上。
“冈部先生想请教三个问题。”翻译的声音很清晰，但语气里也带上了一丝谨慎。
“第一个问题，关于技术积累。JSR和TOK为适配不同光刻机机型和制程节点，储备了上千套定制配方。一套成熟的浸没式ArF配方，迭代周期超过十五年。贵公司的团队成立到现在只有几年时间，配方库目前大概只有几十套。怎么匹配不同光刻机光源之间的差异？涂布和显影宽容度的问题，怎么解决？”
会议室里的空气变了。
冈部问的不是“配方有多少”，而是“几十套和上千套之间的差距意味着什么”
光刻胶不是做出来一种就能通吃所有客户的东西，每一台光刻机的光源特性都略有不同，每一种制程节点的工艺窗口都不一样，必须针对性地调整配方。日本的配方优势是靠几十年时间积累出来的，这个问题直指东大光电最核心的短板。
林景义站起来，走到旁边的白板前面，拿起记号笔。
他先承认了差距。“JSR的上千套配方，是几十年来为不同客户逐一适配积累下来的。我们的配方库确实远没有达到那个量级，这是客观差距。”
“但JSR的上千套配方里，大部分是成熟制程上用了很多年的老配方，真正针对先进制程在持续迭代的核心配方并没有那么多。我们目前聚焦的是先突破90到130纳米这个区间，这个区间能覆盖国内晶圆厂大部分成熟制程的需求。把有限的研发资源集中在最关键的技术节点上，比分散精力去追几百套暂时用不上的配方更有意义。”
他用记号笔在身后的白板上画了一条横线，标注了“90-130n”这个区间。
“关于涂布和显影宽容度。”他转过身，语气比刚才更具体了一些，“从去年到现在，光刻胶调配区那块白板上的工艺参数每天都在更新——温度、压力、搅拌转速、各组分比例，每一项都精确到小数点后两位。配方不是坐在办公室里推演出来的，是一批一批试出来的。”
冈部没有在这个问题上继续纠缠，直接切入了第二个问题。
“第二个问题，关于供应链依赖。光刻胶金属杂质要求控制在十亿分之一级别。日本企业拥有从单体、树脂到成品的全链条提纯产线，从化工原料到成品全程密闭洁净合成。贵公司核心感光树脂和光引发剂全部外购进口。外购原料的批次稳定性怎么保证？实验室小批量提纯相对容易，一旦放大到百升级量产，颗粒缺陷和金属离子超标几乎是必然的。”
会议室里开始有人交头接耳，前排一个公募分析师偏过头跟旁边的人低声说了句什么——林深隐约听到了“太针对了”三个字。后排几个私募的人也在小声交流，有个研究员把笔放下了，抱着胳膊靠在椅背上，表情像是在看一场事先张扬的角斗。
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