第55章 进组（2 / 2）
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“这个就是cvd吗”李观指著那个器材问道。
“是的，这就是cvd还有刻蚀区，光刻区和封装区在后面。”
赵宇指著走廊远端的几间实验室。
“实验室要做到完全无尘还要做好防静电的措施，所以每次进入都要更换无尘服和防静电鞋套。”
李观点了点头，表示清楚。
组成晶片的电晶体这个东西极为细小，当前实验室中是90n的工艺，这意味著电晶体的长度约为90n。
举一个形象的例子，头髮的直径大约在50～100微米，取一个平均值70微米，等於70000n，是90n的数百倍之多。
所以人口鼻呼出的气溶胶，皮肤上脱落的皮肤屑，甚至包括隨身携带的电子器件在运行散热中积攒的灰尘，都会对其造成巨大的影响。
“其他人现在应该都已经进实验室了，你先坐这儿看下电脑上的操作规范视频，是之前的一个师弟录的。导师今天应该是去参加面试了，估计最早要10点多才能回来。等导师回来后，看他怎么安排吧。”
赵宇拉开了办公室內一张靠墙的桌子前的椅子，给他打开了电脑说道。
隨后他便也回到了自己的位置上，整理起了实验数据。
李观点开了文件夹里的操作教学视频，戴上了放在一旁的耳机。
整整两个小时的视频，他一点一点的加速视频，直到再快就听不清声音了才停下。活跃状態下他的思维处理事务的速度好像是有所提升，起码更专注了。
“你放这么快你看的明白吗”
一道声音突然在李观背后响起，原来不知不觉中时间过了快一个小时了，去面试的包仲文不知道什么时候已经回来了。身后还跟著一男一女，其中那名女生看到回头的李观神色极为惊讶。
“包教授。”
李观看见来人立马站了起来。
“我问你，这视频你放那么快你看的明白吗”包仲文没有理会李观的问候，再次问道，脸上看不出表情。
“看的明白。”李观肯定的说，“要是有字幕的话能更快些。”
“启动cvd设备前，正確的抽真空顺序”
“先开机械泵，再开分子泵。”
“cvd过程中，沉积速率异常偏低，最有可能是什么原因”
“反应温度未达到设定值。”
“標准低压lpcvd的典型工作压力范围是多少”
“1–100pa。”
两人一问一答，速度也越来越快，从注意事项，到操作流程甚至问到了应急处理。
两人没有人说一句多余的话，似乎心中都有著正確的答案。
“好小子！怪不得贾主任会帮你说话，你之前真没接触过cvd”
包仲文问得有些累了，终於停了下来，认真的看著李观说道，脸上露出了一丝笑意。
“我之前学过一些半导体方面的东西，但是都是比较粗浅的，cvd是第一回接触。”
“行，一会儿跟著我一起跑一遍沉积，还得实践出真知。”
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