第455章 EBL光刻机开始测试（明天开始正常更新）（2 / 2）
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“董事长，您好！”电话那头传来激动的声音，“第一台EbL光刻机设备已经组装完成，我们打算进行首次测试，您要不要过来看一看？”
听到这个振奋人心的消息，郝强的心情瞬间明朗起来，嘴角不自觉地扬起一抹微笑。
“嗯，好的，我立刻下来！”他果断回答，随即放下手头的工作，离开办公大楼，快步朝实验室走去。
走在路上，看着路两旁的绿树，郝强的心中满是期待。
EbL光刻机的研发历程并不平坦，经历了无数个日夜的努力与坚持，终于迎来了这个关键时刻。
他知道，这不仅仅是一台机器的测试，更是整个团队心血的结晶。
当他走进实验室时，科研人员们的脸上洋溢着兴奋的神情，空气中弥漫着紧张而期待的气息。
组长站在设备前，满脸期待地指着刚刚组装好的光刻机，仿佛是在向郝强展示一件珍贵的艺术品。
“总算组装完成了，就是有点担忧。”组长的声音中透着激动，又有一些担忧。
第一次测试，多多少少会有些问题。
小问题还好，若是大问题的话，就有可能前功尽弃。
汽车公司和锂电公司的希望全压在他们身上。
“嗯，我再次检查一下。”
郝强走近设备，仔细打量着每一个细节，心中感慨万千。
他想起了团队成员们在实验室里加班加点的日子，想起了那些熬夜调试、反复试验的身影。
每一个人都在为了这个目标而努力，付出了巨大的心血。
抚平心情，认真地检查。
其实，在组装之前，每个零部件都进行过测试了，确保总测顺利。
郝强眼前这个样机EbL001，主机尺寸长4米，宽2.5米，高约3.5米，重约3.5吨。
整个系统包括控制机柜、真空泵系统、冷却水循环系统、减振台座、操作控制台等，全套系统重约10吨。
算上这些配套设备，一台EbL光刻机就不止十平方米了，通常需要至少50平方米的，要求室内净高达到4米，且对地面稳定性有较高要求，重新打了地基，免得工作时影响了工作精度。
当然，哪怕精度是相对性的，理论上跟地面震动没有影响，但纳米级设备要求就比较高。
除了避震要求外，还要求恒温：20±1c
-相对湿度：45±5%
洁净度：css100-1000级
以及要求良好的电磁防护。
大概一个小时后，
郝强也没有发现什么大问题，但还是有些担忧，让组长开始测试。
随着组长的指令，测试正式开始。
实验室内的气氛瞬间变得紧张而激动，所有人都屏息凝视，目光紧盯着设备的反应。
随着启动按钮的按下，设备发出轻微的嗡鸣声，逐渐运转起来，显示屏上开始闪烁着数据。
“设备正常运转！”组长略有兴奋，说明路子是对的。
当然，要测试自然要拿实物硅片进行。
实验室里已经准备好了许多片涂上光刻胶的硅片，EbL光刻机与传统的光刻机不同，它无需掩膜版,直接写入。
光刻机的工作原理，简单来说，就是把硅片当成一块黑板，然后在黑板上画电路图。
而紫外线或电子束（EbL光刻机）就是粉笔，粉笔的粗细就是线条的粗细。
由于黑板大小固定，要想画更多的图，自然是粉笔越细越好，但相应地对技术要求更高，就越难画。
黑板上的一层膜，对应光刻胶。
画完图后，将硅片浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
用专业的角度来说，
EbL光刻机与紫光光刻机有一些不同。
首先，在机器顶部的电子枪区域，场发射电子源开始工作。
在强大的电场作用下，尖锐的钨针尖端释放出高能电子束。
这些高速电子束就像一支训练有素的微观部队，整齐划一地向下加速。
随后，电子束进入复杂的电磁透镜系统。
多组精密的电磁线圈产生磁场，就像一个个无形的透镜，将电子束逐步聚焦成极细的光点。
这束光点的直径可以细到纳米级别，目前工艺制程是工艺制程14n。
1毫米等于纳米（百万）。
而人类的一根头发丝的直径大约为0.04～0.05毫米，即4万到5万纳米。
在偏转系统中，精密的偏转线圈控制着电子束的运动轨迹。
通过计算机程序的精确控制，电子束能够在硅片表面进行精确定位和扫描，就像一支精确的纳米画笔。
在真空室底部，覆盖着光刻胶的硅片正静静等待着。
当高能电子束击中光刻胶表面时，发生剧烈的化学反应。
被电子束照射过的区域，光刻胶的分子结构发生改变，为后续的显影过程做好准备。
这就是EbL光刻机的曝光过程。
此时，
眼前这台造价昂贵的设备，正在以一种近乎完美的方式运转着，将公司芯片设计部门的设计图纸青龙8124转化为纳米级的实体结构。
它就像一位精确的画家，用电子为笔，在硅片上描绘出集成电路的蓝图。
随着加工的进行，实验室里回荡着设备运转的轻微嗡鸣声。
车载芯片青龙8124已经在计算机上验证与测试过了，郝强已经验收，完全没问题了。
如今，就差制造这一步。
以目前的运转情况来说，只能说是初步成功。
屏幕上也呈现了画图过程，但实际情况，那是肉眼看不到的，需要拿去测试。
EbL001最大产能为150wph，即处理一个硅片，只需要24秒左右，效率非常高。
当然，设计图越复杂，耗费时间就越长。
理论来说，EbL光刻机的曝光速度很慢，但郝强的技术商店就解决了这个问题。
没过多久，
第一片硅片曝光完成，接着继续第二个硅片曝光，直到曝光十个硅片。
“把后续的显影、封装等工艺完成后进行测试，测试结果出来后跟我说一下。”郝强跟组长交代，“目前看来，我们只是初步成功了，理论上研制EbL光刻机这条路是行得通的。”
大家听到董事长的话，实验室内瞬间爆发出一阵热烈的掌声与欢呼，科研人员们相互击掌，脸上洋溢着无法掩饰的喜悦与兴奋。
当然，大家也知道，这只是初步成功而已，还不能高兴过早。
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